Contact : Laurent Gallais et Jean-Yves Natoli
La plateforme photonique de puissance est constituée d’un ensemble de moyens permettant notamment la caractérisation de composants optiques soumis à de fort flux laser. Les sources utilisées couvrent le régime continu, ns, ps et fs. Les longueurs d’onde utilisée vont de l’UV à l’IR. Outre un ensemble de sources, des moyens de diagnostic et de caractérisation spécifiques et commerciales sont utilisés pour l’analyse de l’interaction laser matière.
Description des moyens
Sources laser :
Laser Femtosecond: Yg:KGW- sub-ps: 1030nm/515nm/343nm, 500fs-3ps, 1mJ, 10Hz-100kHz
Laser CO2: 10,6µm 200W
Laser à fibre : 1070nm, 200W
Laser à diodes fibrées : 800nm, 200W
Sources nanosecondes
1064/532/355/266nm, 0.8 J, 10 Hz at 1064 nm;
1064/532/355/266nm, 0.35 J, 100 Hz at 1064 nm
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Confocal microscope
Optical microscope (DIC)
Atomic Force Microscope
Photospectrometer
Optical profilometer
Fluorescence spectroscopy
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