Contrôle in situ large bande R&T

Accueil › IMPORT ne pas tenir compte de cet espace › Contrôle in situ large bande R&T



La complexité toujours plus grande des filtres que nous sommes conduits à réaliser nous impose d’utiliser sur tous nos bâtis un contrôle in situ des épaisseurs optiques déposées. Ce contrôle utilise une mesure de la transmission de l’empilement à une longueur d’onde particulière et provoque l’arrêt du dépôt de cette couche lorsque la dérivée de cette fonction en fonction de l’épaisseur déposée s’annule. Ce type de contrôle est particulièrement bien adapté à la réalisation de filtres bande étroite, mais peut se trouver mis en défaut dans d’autres cas (filtres dichroïques ou lames séparatrices), pour des raisons liées à la fois à la dispersion des matériaux déposés et à la faible valeur du rapport signal à bruit du paramètre de contrôle. Par ailleurs, cette mesure en transmission devient inopérante lorsque le design du filtre fait appel à des couches métalliques absorbantes. C’est la raison pour laquelle nous avons décidé de développer sur l’un de nos bâtis (assistance par plasma) un nouveau système de contrôle permettant d’enregistrer, à chaque tour du porte substrat et sur un large domaine spectral (400 nm – 1000 nm), les fonctions de transmission et de réflexion de l’empilement en cours de fabrication. Ceci nous permet de déterminer à chaque acquisition l’épaisseur de la couche en cours de dépôt ainsi que la dispersion spectrale de son indice de réfraction, et d’arrêter le dépôt d’un matériau lorsque l’épaisseur optique mesurée a atteint sa valeur prévue. Ceci nous permet également d’étudier l’influence de certaines opérations (entrée d’oxygène, amorçage du plasma) sur les caractéristiques des couches métalliques utilisées. Ce système de contrôle, développé dans le cadre de la thèse de Bruno Badoil (Bourse CNRS Région 2004-2007) a déjà été utilisé avec très grand profit pour la réalisation de filtres dichroïques et d’absorbeurs de lumière large bande.

Système de contrôle large bande R&T