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Métrologie des dimensions critiques : scatterométrie et développements avancés


L’analyse de la lumière diffractée par des structures sub-longueur d’onde permet de reconstruire la forme et la composition de la structure. Cette reconstruction nécessite la combinaison d’une mesure ellipsométrique précise du champ diffracté, de calculs électromagnétiques rigoureux et
d’une méthode d’inversion. Cette technique est depuis peu utilisée dans l’industrie de la microélectronique où elle remplace avantageusement la microscopie électronique à balayage pour la métrologie de dimensions critiques.