Plateau Technique Photonique de Puissance

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Contact : Laurent Gallais et Jean-Yves Natoli

La plateforme photonique de puissance est constituée d’un ensemble de moyens permettant notamment la caractérisation de composants optiques soumis à de fort flux laser. Les sources utilisées couvrent le régime continu, ns, ps et fs. Les longueurs d’onde utilisée vont de l’UV à l’IR. Outre un ensemble de sources, des moyens de diagnostic et de caractérisation spécifiques et commerciales sont utilisés pour l’analyse de l’interaction laser matière.

Description des moyens

Sources laser :
Laser Femtosecond : Yg:KGW- sub-ps : 1030nm/515nm/343nm, 500fs-3ps, 1mJ, 10Hz-100kHz

Laser CO2 : 10,6µm 200W
Laser à fibre : 1070nm, 200W
Laser à diodes fibrées : 800nm, 200W



Sources nanosecondes
-  1064/532/355/266nm,
0.8 J, 10 Hz at 1064 nm ;
-  1064/532/355/266nm,
0.35 J, 100 Hz at 1064 nm




Moyens de diagnostic

Scanning Electron Microscope
Confocal microscope
Optical microscope (DIC)
Atomic Force Microscope
Photospectrometer
Optical profilometer
Fluorescence spectroscopy

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